氧化工藝在CMOS集成電路制造中是一個(gè)非常重要的步驟，用于在硅片（Si wafer）表面生長(zhǎng)二氧化硅（SiO2）。生長(zhǎng)SiO2的過(guò)程可以類比為給硅片“穿上一層保護(hù)外衣”，這種外衣可以起到絕緣、防護(hù)和隔離等作用。

1. 準(zhǔn)備基材（硅片）

首先，需要準(zhǔn)備一塊高純度的硅片。這就像在一張空白的畫布上進(jìn)行繪畫，硅片是CMOS電路的基礎(chǔ)。

2. 氧化爐的選擇

氧化爐（oxidation furnace）是用于生長(zhǎng)SiO2的核心設(shè)備。通常情況下，氧化爐的溫度范圍在900℃到1200℃之間。你可以把這個(gè)爐子想象成一個(gè)高溫的“蒸鍋”，溫度高而穩(wěn)定。高溫是讓Si和氧發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的必要條件。

3. 生長(zhǎng)介質(zhì)的選擇：O2或H2O

氧化過(guò)程可以通過(guò)兩種方式進(jìn)行：干氧化（Dry Oxidation）和濕氧化（Wet Oxidation）。這兩種方式的區(qū)別在于提供氧的介質(zhì)不同：

干氧化使用O2氣體，類似于讓硅片在純氧環(huán)境中“烘烤”。

濕氧化使用含有水蒸氣的環(huán)境，這可以類比為將硅片“蒸”在含有水分的高溫氣氛中。

這兩種方法都會(huì)使硅片與氧發(fā)生反應(yīng)，生成SiO2，但是濕氧化的反應(yīng)速度更快，因?yàn)樗肿犹峁┑难踉痈菀讛U(kuò)散到硅片表面。

4. 化學(xué)反應(yīng)過(guò)程

在氧化爐中，當(dāng)硅片與氧氣（O2）或水蒸氣（H2O）接觸時(shí)，硅原子與氧原子發(fā)生以下化學(xué)反應(yīng)：

干氧化反應(yīng)方程：Si + O2  →  SiO2

濕氧化反應(yīng)方程：Si + 2H2O  →  SiO2 + 2H2

在這兩個(gè)反應(yīng)中，硅片表面上的硅原子與氧原子結(jié)合生成一層二氧化硅。這層SiO2覆蓋在硅片表面，形成一層非常均勻且致密的氧化層。

5. 生長(zhǎng)厚度的控制

氧化的溫度和時(shí)間直接影響SiO2層的厚度?？梢园堰@個(gè)過(guò)程想象成煮雞蛋，溫度越高、時(shí)間越長(zhǎng)，蛋白凝固得就越厚。同樣，氧化溫度越高、時(shí)間越長(zhǎng)，生成的SiO2厚度就越大。在實(shí)際操作中，需要根據(jù)電路設(shè)計(jì)的需求精確控制這兩個(gè)參數(shù)。

6. 用途與功能

生長(zhǎng)的SiO2層在CMOS工藝中有多種用途，例如：作為柵極氧化層，在晶體管中提供隔離和電容效應(yīng)；作為場(chǎng)氧化層，將器件隔離以減少漏電流；作為掩膜層，用于離子注入等工藝中保護(hù)硅片表面。

整個(gè)“生長(zhǎng)SiO2”的過(guò)程，可以總結(jié)為：將硅片放入一個(gè)高溫的“氧化爐”中，通過(guò)干氧化或濕氧化的方式，使硅片表面生成一層均勻的SiO2層。這個(gè)過(guò)程的控制參數(shù)主要是溫度、時(shí)間和氧化氣氛。生長(zhǎng)的SiO2層在CMOS工藝中起到至關(guān)重要的保護(hù)和絕緣作用。

免責(zé)聲明：本文采摘自“老虎說(shuō)芯”，本文僅代表作者個(gè)人觀點(diǎn)，不代表薩科微及行業(yè)觀點(diǎn)，只為轉(zhuǎn)載與分享，支持保護(hù)知識(shí)產(chǎn)權(quán)，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明原出處及作者，如有侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系我們刪除。