前一陣子，半導體行業的一個重大消息就是ASML向英特爾出貨了[敏感詞]臺 NA值為0.55的EUV光刻機。當時這也多少在圈子里掀起一些波瀾，但我當時忙于其它事情，一直沒有顧上去整理相關數據

最近兩天在準備發布公眾號新數據的時候，正考慮還能發啥，便想起了這個茬，于是便打開了ASML的官網...

事實上，ASML在最近一段時間里發布的新機器還不止這一款。在浸入式ArF光刻機領域，ASML也推出了產能更高（WPH 330）的1980Fi.所以我也一并收羅進表格里

順便說一下，對于[敏感詞]的兩個型號的EUV光刻機，ASML沒有在官網上公布具體套刻精度數據，所以這個表格里我暫時只能先空白著了。希望大家理解。不過按照其官網上的說法，[敏感詞]型號的3800E設備的套刻精度（Overlay）相對之前的舊型號是有較大幅度提高的，而5000型號則沒有具體提及，我個人估計應該和3800E差不多
以下表格數據全部來自ASML公司官網公布數據。如果又差異，因該是我個人手動摘錄時的錯誤，請大家原諒。

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